半導體廢氣處理設備是專門設計用于凈化和處理半導體制造過程中產生的有害氣體的系統。這些設備通過各種技術手段,如吸附、催化燃燒、生物處理等,有效去除廢氣中的有害物質,如揮發性有機化合物(VOCs)、酸性氣體和重金屬等,以達到環境保護和職業健康的要求
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產品 | KT-DS100 | KT-DS200 |
類型 | 吸附式 | 吸附式 |
處理能力 | 100SLM | 200SLM |
適用氣體 | F2,CL2,HF,HCL,DCS,TCSBF3等 | F2,CL2,HF,HCL,DCS,TCSBF3等 |
適用工藝 | ETCH/DIFF/CVD等 | ETCH/DIFF/CVD等 |
電源 | 220V, 1Ф,10A,50/60Hz | 220V, 1Ф,10A,50/60Hz |
氮氣 | Max.60LPM, 5 kg/cm2 | Max.100LPM, 5 kg/cm2 |
冷取水 | N/A | N/A |
氣體入口 | KF40*4 | KF40*4 |
排氣口 | Ф100 | Ф100 |
設備尺寸 | 800Wx600Dx1850H | 1200Wx700Dx1850H |
吸附式廢氣處理設備具有多種優勢:它能夠有效去除多種有害氣體,包括揮發性有機化合物(VOCs)、硫化氫、氨氣等,適用于化工、制藥、印刷等行業。其次,設備操作簡單,維護成本低,且占地面積小,適合空間受限的場合。此外,通過選擇合適的吸附材料和設計合理的吸附床結構,可以實現對特定污染物的高效去除。
1、處理特氣效率完美
2、運營成本低,無廢水
3、易維護&更換吸附桶方便
4、操作穩定,可PLC/Touch Panel自動控制
5、配置應急或備份吸附桶,無縫切換
6、主要應用行業:Semi、FPD、Solar、LED
7、主要應用工藝:IMP/Etch/MOCVD/廠務等
8、吸附劑容量:100L
產品 | KT-CW600 | KT-CW1200 |
類型 | 水洗式 | 水洗式 |
處理能力 | 600SLM | 1200SLM |
適用氣體 | NH3、C12、HC1、HBr、S02、NO2等溶于水的氣體 | NH3、C12、HC1、HBr、S02、NO2等溶于水的氣體 |
適用工藝 | ETCH/DIFF/CVD等 | ETCH/DIFF/CVD等 |
電源 | 220V, 1Ф,16A,50/60Hz | 220V, 1Ф,32A,50/60Hz |
氮氣 | Max.60LPM, 5 kg/cm2 | Max.100LPM, 5 kg/cm2 |
自來水 | 5~8LPM, 3kg/cm2 | 8~15LPM, 3kg/cm2 |
氣體入口 | KF40*4 | KF40*8 |
排氣口 | Ф100 | Ф100 |
設備尺寸 | 800Wx600Dx1850H | 1500Wx700Dx1850H |
水洗式廢氣處理設備具有結構簡單、操作方便、投資成本低等優點。它能夠適應各種規模的半導體廢氣處理需求,特別適用于處理大風量、低濃度的廢氣
1、使用耐腐蝕材料,整體防腐蝕設計
2、維護方便,操作穩定,PLC/Touch Panel自動控制運營成本低
3、主要應用行業:Semi、FPD、Solar、LED
4、主要應用工藝:Etch/廠務等
5、處理容量:600LPM
6、設備處理氣體種類:NH3.CI2.HC.HBr.SO2.NO2等溶于水的氣體
產品 | KT-EW800 | KT-EW1600 |
類型 | 電熱水洗式 | 電熱水洗式 |
處理能力 | 800SLM | 1600SLM |
適用氣體 | SiH4、PH3、B2H6、CL2、HBr、NH3、CH4等 | SiH4、PH3、B2H6、CL2、HBr、NH3、CH4等 |
適用工藝 | ETCH/DIFF/CVD/IMP等 | ETCH/DIFF/CVD/IMP等 |
電源 | 220V, 1Ф,40A,50/60Hz | 220V, 1Ф,80A,50/60Hz |
氮氣 | Max.60LPM, 5 kg/cm2 | Max.100LPM, 5 kg/cm2 |
壓縮空氣 | Max.100LPM, 5 kg/cm2 | Max.180LPM, 5 kg/cm2 |
氣體入口 | KF40*4 | KF40*8 |
排氣口 | Ф100 | Ф100 |
設備尺寸 | 900Wx750Dx1850H | 1500Wx800Dx1850H |
電熱水洗式廢氣處理設備的優勢在于其能夠處理多種類型的廢氣,特別是那些含有水溶性污染物的廢氣。電加熱功能使得設備在處理低溫或寒冷環境下的廢氣時更加高效。
1、采用筒式加熱棒,高加熱效率及均勻熱分布,溫度850℃
2、操作簡便,PLC/Touch Panel自動控制整體防腐設計
3、可選配濕式靜電除塵模塊
4、運行成本低
5、廣泛應用于Semi、FPD、Solar、LED行業的各種工藝
6、處理容量:600SLM-1600SLM
產品 | KT-PW600 | KT-PW1200 |
類型 | 等離子水洗式 | 等離子水洗式 |
處理能力 | 600SLM | 1200SLM |
適用氣體 | NF3、CF4、SF6、C4F8、C2F6、SiH4、PH3、B2H6、CL2、NH3、CH4等 | NF3、CF4、SF6、C4F8、C2F6、SiH4、PH3、B2H6、CL2、NH3、CH4等 |
適用工藝 | ETCH/DIFF/CVD/IMP等 | ETCH/DIFF/CVD/IMP等 |
電源 | 220V, 3Ф,100A,50/60Hz | 220V, 1Ф,160A,50/60Hz |
氮氣 | Max.50LPM, 5 kg/cm2 | Max.100LPM, 5 kg/cm2 |
壓縮空氣 | Max.100LPM, 5 kg/cm2 | Max.180LPM, 5 kg/cm2 |
冷卻水 | 5~8LPM, 20~30℃,3kg/cm2 | 8~15LPM, 20~30℃,3kg/cm2 |
氣體入口 | KF40*4 | KF40*8 |
排氣口 | Ф100 | Ф100 |
設備尺寸 | 800Wx600Dx1850H | 1500Wx700Dx1850H |
等離子水洗式廢氣處理設備具有多項優點:首先,它能夠處理多種難以降解的有害氣體,適用范圍廣;其次,設備運行穩定,凈化效率高,能夠滿足嚴格的環保要求;再者,該設備結合了等離子體的高能量特性和水洗的物理吸收作用,實現了高效的廢氣凈化。
1、低功率,高性能
2、出色的PFC氣體處理效率
3、通過配置靜電除塵系統,達到超過99%的副產物顆粒處理效率
4、等離子火炬使用壽命長
5、出色的防腐蝕設計
6、自動模式,使用簡便
7、主要應用行業:Semi、FPD、Solar、LED
8、主要應用工藝:Etch/CVD等
我們建有300平米千級潔凈間,并且通過了ISO9001和ISO14001質量體系認證。我們追求精益求精,用品質贏得客戶信任。
對供應商的所有原材料嚴格執行驗收
生產過程中,每完成一道工序均進行嚴格的質量監測
遵循出廠檢驗報告,逐項監測,確保交付設備穩定運行